Phenom Pharos G2飛納臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡｜科研級(jí)桌面電鏡

Phenom Pharos G2 是荷蘭飛納推出的第二代 肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源臺(tái)式掃描電鏡（桌面場(chǎng)發(fā)射 SEM）。設(shè)備集 背散射電子成像（BSE）+ 二次電子成像（SE）+ 集成能譜分析（EDS） 于一體，實(shí)現(xiàn)科研級(jí)微觀表征的高分辨率、高效率與全自動(dòng)化。

得益于高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源，Phenom Pharos G2 在 低電壓條件下依然能獲得清晰圖像，顯著降低樣品受損與電子束穿透，非常適合 絕緣材料、電子束敏感樣品、生物材料、聚合物 等領(lǐng)域的微觀分析。

產(chǎn)品亮點(diǎn)｜科研級(jí)臺(tái)式掃描電鏡的優(yōu)選

1. 真正的場(chǎng)發(fā)射級(jí)桌面電鏡

• 采用 熱場(chǎng)發(fā)射電子源（Schottky FEG）

• 高亮度、高穩(wěn)定性、長(zhǎng)壽命，適合長(zhǎng)期科研實(shí)驗(yàn)

2. 高分辨率成像性能

• 分辨率優(yōu)于 1.5 nm

• 低電壓下成像仍可保留精細(xì)表面結(jié)構(gòu)

• 更真實(shí)地還原納米材料、金屬、半導(dǎo)體、高分子等樣品形貌

3. 多模式成像 + 能譜一體化

• 背散射電子成像（BSE）

• 二次電子成像（SE）

• 集成能譜 EDS（高速穩(wěn)定）

• 一臺(tái)設(shè)備即可完成 形貌 + 成分分析

4. 操作簡(jiǎn)便，快速上手

• 自動(dòng)化設(shè)計(jì)，30 分鐘可上手

• 彩色光學(xué)顯微鏡全景導(dǎo)航，定位更直觀

• 集成 自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái)，操作無(wú)門(mén)檻

使用體驗(yàn)升級(jí)｜適合實(shí)驗(yàn)室、研發(fā)中心、生產(chǎn)質(zhì)檢

5. 快速、輕松、無(wú)需噴金

• 內(nèi)置真空鎖，15 秒即可完成抽真空

• 可直接觀察不導(dǎo)電樣品，無(wú)需金屬鍍膜處理

• 對(duì)電子束敏感樣品更友好

6. 高穩(wěn)定性與防震設(shè)計(jì)

• 內(nèi)置 27 組獨(dú)立減震模塊

• 無(wú)需額外防震平臺(tái)，適用于學(xué)校實(shí)驗(yàn)室、企業(yè)研發(fā)室、狹小辦公區(qū)

7. 電子光路免維護(hù)

• 免調(diào)節(jié)、免對(duì)中、免維護(hù)

• 保證成像一致性，大幅降低維護(hù)難度

維護(hù)成本低｜適合高頻使用的科研與工程場(chǎng)景

飛納臺(tái)式掃描電鏡以其 穩(wěn)定、耐用、自動(dòng)化高 的特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于科研院所、材料研發(fā)、鋰電行業(yè)、半導(dǎo)體檢測(cè)、質(zhì)量分析等領(lǐng)域。

• 燈絲壽命長(zhǎng)，性能穩(wěn)定

• 電鏡系統(tǒng)具備硬件安全保護(hù)，避免誤操作損傷

• 免費(fèi)遠(yuǎn)程聯(lián)網(wǎng)診斷

• 后期維護(hù)簡(jiǎn)單，總成本顯著低于傳統(tǒng)落地式場(chǎng)發(fā)射電鏡

  
         

適用應(yīng)用領(lǐng)域

• 材料科學(xué)（金屬、陶瓷、高分子、復(fù)合材料）

• 鋰電池材料、正負(fù)極粉末分析

• 半導(dǎo)體、微電子、晶圓缺陷檢測(cè)

• 生物材料、組織結(jié)構(gòu)、微納結(jié)構(gòu)分析

• 表面工程、鍍層、薄膜研究

• 工業(yè)質(zhì)檢與失效分析

為什么選擇飛納 Phenom Pharos G2？

? 科研級(jí)成像質(zhì)量
? 桌面級(jí)體積，無(wú)需機(jī)房
? 自動(dòng)化程度高，操作零門(mén)檻
? 維護(hù)成本低、可靠性高
? 一機(jī)完成形貌 + 元素分析

如需獲取飛納臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡｜科研級(jí)桌面電鏡技術(shù)參數(shù)、配置清單、應(yīng)用案例或報(bào)價(jià) ，歡迎聯(lián)系我們：